ASML winnaar publieksprijs European Inventor Awards met euv-vinding

Erik Loopstra en Vadim Banine hebben de publieksprijs van de European Inventor Award Publieksprijs 2018 gewonnen. De twee hebben met hun teams bij ASML en Zeiss een belangrijke bijdrage aan de ontwikkeling van euv-machines geleverd.

winner-top-en.jpgASML koos in 2001 om zich op extreem-ultraviolette lithografie te richten als opvolger van de huidige 193nm-immersielithografie. Bij de techniek schiet een laser op minuscule druppels tin om plasma te vormen, dat extreem ultraviolette straling genereert en in een vacuümomgeving via een stelsel van spiegels op het silicium wordt gereflecteerd. De euv-machines bleken extreem moeilijk om te maken en pas bij de 7nm-productie van chips zullen deze voor het eerst ingezet worden. De opvolger, high NA-euv, moet ook voor 3nm en wellicht verdere nodes te gebruiken zijn.

Lees meer over hun innovatie